关于晶振TOOLING值
设备放了段时间310晶控, 重新调整晶振TOOLING值,在基片上做单层材料测试中心波长来测定,然后在调整膜系,但是镀出来结果和设计差别太大,各位大侠 是什么原因啊?
设备放了段时间310晶控, 重新调整晶振TOOLING值,在基片上做单层材料测试中心波长来测定,然后在调整膜系,但是镀出来结果和设计差别太大,各位大侠 是什么原因啊?

验证码:        
版块示例
版块示例

版块示例

版块示例




© 2021 光学薄膜信息网    设置底部链接
Powered by DIY-Page 8.3