提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]专利名称提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法[/backcolor][backcolor=rgb(218, 252, 218)]技术领域本发明涉及光学薄膜,特别是一种提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法。[/backco...
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]专利名称提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法[/backcolor]
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]技术领域本发明涉及光学薄膜,特别是一种提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法。[/backcolor]
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]背景技术随着激光技术的发展,对激光系统中薄膜元件激光损伤阈值的要求越来越高。薄膜的激光损伤问题已经成为限制激光向高功率和大能量方向发展的主要瓶颈之一。现在大量实验表明,薄膜的激光损伤与薄膜的微缺陷紧密相关,微缺陷是薄膜激光损伤的源头,激光损伤一般都是从缺陷点开始发生和发展的。一般而言,薄膜的缺陷密度越低,则薄膜的激光损伤阈值越高。如何降低薄膜的微缺陷是强激光薄膜研究中最为关心的问题之一,已经成为这一领域非常活跃的研究课题。对于薄膜中微缺陷密度的降低,现在研究较多的方法是激光预处理,即用亚阈值的激光在薄膜表面逐行扫描辐照,使薄膜中的微缺陷得到去除或稳定。但是这种方法目前还存在争议,不同研究机构得到的结果不完全相同,特别对于小光斑扫描激光预处理,如果激光能量选择不当,预处理本身就可能使薄膜产生损伤。由于是逐行连续扫描,所以处理一块样品需要花费很多的时间,处理效率很低。
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