提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]专利名称提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法[/backcolor][backcolor=rgb(218, 252, 218)]技术领域本发明涉及光学薄膜,特别是一种提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法。[/backco...
5.根据权利要求1所述的镀膜方法,其特征在于本方法不但适用于氧化物薄膜,也适用于其他种类的薄膜。[/backcolor]
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]全文摘要[/backcolor]
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]一种提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法,该方法包括下列步骤首先将基片放入石油醚中超声清洗,或放入去离子水中超声清洗,清洗完毕取出后用高纯的氮气吹干;然后将基片放入真空室内进行镀膜;最后,用氧等离子体对沉积的薄膜进行后处理。本发明方法可大幅度提高光学薄膜的激光损伤阈值,而且具有效率高、速度快、操作简单易行和费用较低的特点。[/backcolor]
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]文档编号C23C14/58GK1614082SQ200410066749[/backcolor]
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]公开日2005年5月11日 申请日期2004年9月28日 优先权日2004年9月28日[/backcolor]
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]发明者张东平, 范正修, 邵建达, 张大伟, 范树海, 齐红基, 赵元安 申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所[/backcolor]
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]X技术网 原文链接:http://www.xjishu.com/zhuanli/24/200410066749.html[/backcolor]
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