一种激光刻蚀薄膜的方法
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]专利名称一种激光刻蚀薄膜的方法[/backcolor][backcolor=rgb(218, 252, 218)]技术领域本发明涉及一种激光刻蚀薄膜的方法,该方法主要用于激光对高分子薄膜 的刻蚀与表面处理工作。...
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]专利名称一种激光刻蚀薄膜的方法[/backcolor]
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]技术领域本发明涉及一种激光刻蚀薄膜的方法,该方法主要用于激光对高分子薄膜 的刻蚀与表面处理工作。[/backcolor]
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]背景技术用激光辐照固体材料引起烧蚀溅射是一个激光与物质相互作用的基础性问 题,也是一种高新技术,在材料加工,特别是在微电子材料加工以及产生高质 量的光电材料薄膜方面有广泛地应用前景.为了给实际应用提供可靠的依据,需 要深入研究激光烧蚀溅射的过程。最近十多年来,大量的实验研究工作已经出 现。强激光脉冲辐照固体材料将引起材料烧蚀,诱导产生等离子体,从靶面溅射 出大量电子、原子、分子、原子分子簇以及它们的正负离子。从动力学来分析 等离子体的形成、传播到消失,经历了一个电子、原子、离子、分子和粒团之间 相互剧烈碰撞作用的过程。高分子材料由于它们的强度和电特性,对现代工业[/backcolor]
[backcolor=rgb(218, 252, 218)]有十分重要的意义。自R.Srinivasan等第一次发现用远紫外(193nm)激光脉冲 对高分子材料可以进行精确干净的刻蚀以后,高分子膜在激光脉冲下被剥蚀的 研究得到了越来越多的重视。准分子激光山于其波长范围在紫外到远紫外,光 子能量为4-6. 4eV,所以光化学断键是可能的。而且准分子激光器的光斑尺寸大, 便于作为牺射光源,在微电子材料加工方面成为一种很有用的工具。
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