专利名称一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法
专利名称一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法技术领域本发明涉及光学薄膜领域,特别是一种提高减反射薄膜激光损伤阈值的制备方法。背景技术在激光系统领域,高损伤阈值激光薄膜是强激光系统中关键元件之一,...
专利名称一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法
技术领域本发明涉及光学薄膜领域,特别是一种提高减反射薄膜激光损伤阈值的制备方法。
背景技术在激光系统领域,高损伤阈值激光薄膜是强激光系统中关键元件之一,也是大激光装置设计中关键因素之一,其损伤阈值及损伤特性是限制强激光技术进一步发展的重要瓶颈和影响激光系统稳定性和使用寿命的重要因素之一。在激光系统中,减反射膜必须承受和高反射膜一样高的能量,但是在实际应用中减反射膜的抗激光损伤阈值远远低于高反射膜的阈值。通过对减反膜损伤机制的研究发现,引起其损伤的主要因素是基板亚表面处存在的纳米吸收中心,当激光辐照元件到达纳米吸收中心时,其能量会被纳米吸收中心吸收产生等离子体进而对元件破坏。这些纳米吸收中心主要来自基板在抛光过程中隐藏在表面或亚表面处的划痕或裂纹中的抛光液残留。因此,对于纳秒激光作用下的减反射薄膜而 言,最有效的能够提升其损伤阈值的方式是在镀制薄膜之前,采取措施尽量减少甚至消除隐藏在基板亚表面处的纳米吸收中心。有众多的学者提出了可以制备高损伤阈值的增透膜的方法,但是都局限在薄膜的制备方面,没有从激光损伤诱因的控制上出发,没有对薄膜的载体基板进行预处理。因此,这些众多薄膜的制备技术并不能有效提升减反射薄膜的损伤阈值。
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