专利名称一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法
专利名称一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法技术领域本发明涉及光学薄膜领域,特别是一种提高减反射薄膜激光损伤阈值的制备方法。背景技术在激光系统领域,高损伤阈值激光薄膜是强激光系统中关键元件之一,...
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于镀膜开始前对基板用离子源进行轰击刻蚀时,控制氧气流量为40sccm,氩气流量为30sccm,电压为1100V,电流为1000mA。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于所述的基板采用光学玻璃或晶体。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于所使用的镀制减反射薄膜采用物理方法或采用化学方法。
全文摘要
本发明涉及一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法,该方法属于薄膜光学领域,主要针对减反射激光薄膜中引起损伤发生的关键因素——基板表面及亚表面处的纳米吸收中心,在薄膜制备前,采用高能离子束对基板进行轰击刻蚀处理,此方法既可以克服传统机械式抛光引起的抛光液残留问题,又可以避免化学方式刻蚀引起基板划痕或裂纹被放大引起酸残留或抛光液团聚现象发生。同时刻蚀深度和表面粗糙度可以精确控制,非常高效地降低了纳米吸收中心的密度,大大提高了减反射薄膜的激光损伤阈值,而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
文档编号C23C14/02GK103014616SQ20121050727
公开日2013年4月3日 申请日期2012年12月3日 优先权日2012年12月3日
发明者焦宏飞, 王利, 鲍刚华, 程鑫彬, 马彬, 王占山 申请人:同济大学
X技术网 原文链接:http://www.xjishu.com/zhuanli/24/201210507272.html
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