专利名称一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法
专利名称一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法技术领域本发明涉及光学薄膜领域,特别是一种提高减反射薄膜激光损伤阈值的制备方法。背景技术在激光系统领域,高损伤阈值激光薄膜是强激光系统中关键元件之一,...
1.可有效降低减反射薄膜用基板表面和亚表面处纳米吸收中心的堆积密度和本征吸收,基板经过离子源刻蚀过的薄膜的弱吸收测量有明显降低;
2.可有效提高减反射薄膜的损伤阈值。对比了基板有无使用离子源刻蚀的薄膜的激光损伤阈值,发现使用本发明方法镀制出的薄膜的阈值有大幅度的提高;
3.本发明方法经济易行。此方法可利用镀膜设备中进行离子辅助的设备,不必额外添置新的设备,费用低廉。此外,该方法在镀膜设备真空室内与镀膜同时完成,操作简单易行;
4.本发明方法针对性强、品质高、效率快。此方法直接针对引起减反射膜激光损伤最关键的因素而对基板进行改善处理,针对性强,直接在镀膜前将问题解决,避免了成膜后处理效率低的缺点。
具体实施例方式通过具体实施例对本发明作进一步详细说明。实施例1 :以石英玻璃作为基板,首先将其放入清洗液中超声清洗7分钟,再用去离子水洗净,取出后用高纯氮气吹干,然后放入镀膜设备中工件架上;设备为日本光驰0TFC-1300镀膜机,配置离子源为17cm射频离子源。控制镀膜机内真空室的本底真空为I X KT3Pa 6X KT3Pa ;镀膜开始前,先用离子源对基板表面进行轰击刻蚀,离子源发射的是氩离子和氧离子,控制氧气流量为30SCCm,氩气流量为40SCCm,电压为1100V,电流为900mA ;轰击刻蚀经历60分钟后停止。将基板加热至150度,并恒温80分钟后采用电子束热蒸发的方式镀制工作在1064nm处的减反射薄膜;待真空室冷却至室温后取出镀制好的样品。将经过此方法制备的薄膜和未经此方法制备的减反射薄膜进行对比研究发现,与未经过离子束刻蚀处理的样品相比,薄膜的弱吸收分别为20ppm和6ppm ;薄膜1064nm的激光损伤阈值则分别为22J/Cm2和34J/Cm2。实施例2:
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