专利名称一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法
专利名称一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法技术领域本发明涉及光学薄膜领域,特别是一种提高减反射薄膜激光损伤阈值的制备方法。背景技术在激光系统领域,高损伤阈值激光薄膜是强激光系统中关键元件之一,...
发明内容
本发明为了提升减反射薄膜的激光损伤阈值,提供了一种能够从控制减反射薄膜损伤诱因作为出发点的提高减反射薄膜激光损伤阈值的制备方法,该方法可以极大幅度提高减反射薄膜的激光损伤阈值,而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。本发明的技术解决方案如下
一种提高减反射薄膜激光损伤阈值的薄膜制备方法,具体步骤如下
(1)将基板清洗干净,采用高纯氮气吹干后放入镀膜机;
(2)控制镀膜机内真空室的本底真空度为IX10_3Pa 6X 10_3Pa ;
(3)镀膜开始前,先用离子源对基板表面进行轰击刻蚀,时间为50-70分钟,离子源发射的是氩离子和氧离子,控制氧气流量为30 50SCCm,氩气流量为5 40SCCm,电压为200V 1200V,电流为 200mA IlOOmA ;
(4)将基板加热至140-155度,并恒温70-90分钟后采用电子束蒸发方式镀制减反射薄
膜;
(5)待真空室冷却至室温后取出镀制好的样品。本发明中,所述的基板可以是光学玻璃,也可以是晶体。本发明中,镀膜开始前对基板用离子源进行轰击刻蚀时,控制氧气流量为40sCCm,氩气流量为30sccm,电压为1100V,电流为1000mA。
本发明中,所使用的镀制减反射薄膜采用物理方法或采用化学方法。本发明的核心是利用离子源发射的高密度氩离子和氧离子对镀膜使用的基板进行离子束刻蚀。这一方式的优点在于此种刻蚀方式是非机械接触、速度平稳、抛光均匀的刻蚀方式,既可以克服传统机械式抛光引起的抛光液残留问题,又可以避免化学方式刻蚀引起基板划痕或裂纹被放大引起酸残留或抛光液团聚现象发生。同时由于此种刻蚀方式速度平稳、抛光均匀的特性,基板通过此种刻蚀处理后,表面粗糙度可以保持和初始值一样,并且整个表面是均匀刻蚀,而刻蚀的深度也可以精确控制。除此之外,离子源产生的氧离子具有更高的活性,在去除纳米吸收中心的同时,还可以使部分纳米吸收中心氧化。综上所述,纳秒激光减反射薄膜最核心的关键点——纳米吸收中心可以通过这一方法得到有效地抑制和消除,最终使减反射薄膜的损伤阈值得到显著地提高。本发明的技术效果如下
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