请教一个减反射薄膜的设计
已知基板为硅片折射率为3.85),从基板到外界空气依次为:5nm厚的二氧化硅层、2层不同折射率和厚度的氮化硅薄膜、空气,第一层氮化硅,其厚度为d1(具体数值待定),折射率为n3(折射率在2.0-2.5之间可调,可取其...
已知基板为硅片折射率为3.85),从基板到外界空气依次为:5nm厚的二氧化硅层、2层不同折射率和厚度的氮化硅薄膜、空气,第一层氮化硅,其厚度为d1(具体数值待定),折射率为n3(折射率在2.0-2.5之间可调,可取其任意值,具体数值待定),第二层氮化硅,其厚度为d2(具体数值待定),折射率为n4(折射率在2.0-2.5之间可调,可取其任意值,具体数值待定),且d1+d2=75nm,要求在300-1100nm的整个太阳光谱反射率最低,请问:n3、n4、d1和d2值是多少才能达到最佳?谢谢!
  • lilisrlhj  2018-6-19 15:49:58
    N3/2.5 D1/12 N4/2.0 D2/63

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